第五章单元测试
  1. 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。    ( )                    


  2. A:对 B:错
    答案:对
  3. 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。    ( )                    


  4. A:错 B:对
  5. 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有的专有权是( )        


  6. A:将受保护的布图设计投入商业利用    
    B:对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制    
    C:将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
    D:对受保护的布图设计的全部进行复制    
  7. 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计专有权的保护期为( )            


  8. A:15年    
    B:20年
    C:8年    
    D:10年    
  9. 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的,可以选择的救济途径是( )            


  10. A:自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局申请行政复议    
    B:自收到通知之日起3个月内直接向人民法院提起行政诉讼
    C:自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会请求复审    
    D:自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会申诉    

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