半导体制造技术答案2023

第四章测试

1. 光刻本质上是光刻胶的光化学反应。（ ）
A:错 B:对
答案:B
2. 一个透镜的数值孔径越大就能把更少的衍射光会聚到一点。（ ）
A:错 B:对 3. 使用正胶进行光刻时，晶片上所得到的图形与掩膜版图形相同。（ ）
A:错 B:对 4. 使用负胶进行光刻时，晶片上得到的图形与掩膜版上的图形相反。（ ）
A:对 B:错 5. 正性光刻胶经过曝光后，可以溶解于显影液。（ ）
A:对 B:错 6. 负性光刻胶经过曝光后，可以溶解于显影液。（ ）
A:错 B:对