第四章测试1.扫描探针显微镜工作模式包括（ ）。
A:恒定间距模式 B:恒定电流模式 C:恒定电压模式
答案:AB
2.STM通过（ ）对抗蚀剂曝光。
A:场致发射电子 B:场致电场 C:隧穿电流 3.蘸笔纳米探针加工受（ ）等因素影响。
A:探针驻留时间 B:表面化学吸附性 C:环境湿度 D:表面晶粒尺寸 4.当AFM以STM方式工作时，也可以用AFM实现对抗蚀剂的曝光。（ ）
A:错 B:对 5.与STM相比，用AFM进行扫描探针局部氧化加工更合适。 （ ）
A:错 B:对
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