[多选题]下面有关浸没式光刻技术的说法，正确的是（ ）选项:[能够减小光的波长
, 在目镜和衬底间填充水
, 由台积电的工程师林本坚发明
, 能够增大物镜的数值孔径
]
[多选题]相移光刻技术中，使光产生相位差的方法包括：（ ）选项:[改变石英掩膜板的倾斜角
, 减小未沉积铬区域的石英板厚度
, 在掩膜板上的透光区域中添加移相器
, 利用整面透光的石英板，改变局部区域的厚度
]
[单选题]根据瑞利判据得到的光刻分辨率极限，表达式为（ ）选项:[
,
,
,
]
[单选题]正光刻胶和负光刻胶中，光敏剂的作用分别是（ ）选项:[交联催化剂，交联催化剂
, 提供自由基，提供自由基
, 提供自由基，交联催化剂
, 交联催化剂，提供自由基
]
[判断题]光刻是集成电路制造过程中总成本最高的工艺。（ ）选项:[对, 错]
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