第四章测试1.扫描探针显微镜工作模式包括（ ）。
A:恒定电流模式
B:恒定间距模式
C:恒定电压模式
答案:AB
2.STM通过（ ）对抗蚀剂曝光。
A:场致发射电子
B:隧穿电流
C:场致电场
3.蘸笔纳米探针加工受（ ）等因素影响。
A:表面晶粒尺寸
B:环境湿度
C:表面化学吸附性
D:探针驻留时间
4.当AFM以STM方式工作时，也可以用AFM实现对抗蚀剂的曝光。（ ）
A:对 B:错 5.与STM相比，用AFM进行扫描探针局部氧化加工更合适。 （ ）
A:错 B:对
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