第五章测试
1.热压纳米压印技术工艺流程为( )。
A:反应离子刻蚀去残胶
B:热固化
C:脱模
D:压印

答案:ACD
2.便于脱模,最易实施的方法是( )。
A:光刻胶中添加其他物质,减小光刻胶与模板的粘附作用
B:模板内涂镀高抗粘连的材料
C:预先在基片底部涂一层粘结性好的聚合物
3.纳米压印包括阳模压印和阴模压印,阴模压印相对容易。( )
A:错 B:对 4.正坡度印模结构最适于脱模,零坡度视印模侧壁的表面粗糙度而定。 ( )
A:对 B:错 5.

紫外光固化纳米压印一般采用透明的印模。 ( )


A:错 B:对

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