绪论单元测试
1.微纳加工是以平面集成加工为代表的非传统的加工方法,加工形成的部件或结构本身的尺寸在( )量级。
A:纳米
B:微米
C:微米或纳米

答案:C
2.光刻工艺的基本要素主要包括( )。
A:光刻胶
B:对准系统
C:光源

答案:ABC
3.刻蚀法图形转移技术的关键刻蚀参数:( )。
A:掩膜的抗刻蚀比
B:掩膜的抗刻蚀比和刻蚀的方向性
C:刻蚀的方向性

答案:B
4.间接加工技术能够绕过现有设备加工能力极限,意指直接光刻技术,其图形结构的分辨率决定于某种光刻方法的分辨率。( )
A:对 B:错
答案:B
5.间接加工技术就是光刻加图形转移技术。( )
A:对 B:错
答案:B

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