第七章单元测试
- 当许多损伤区连在一起时就会形成连续的非晶层，开始形成连续非晶层的注入剂量称为（ ）。
- 掺杂后退火时间一般在（ ）。
- 注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关?（ ）
- 掺杂后，退火的目的是（ ）。
- 低剂量离子注入不会产生损伤。（ ）
- 如果注入离子的半径较小，它沿着敞开的晶体方向注入时，沟道效应更加显著。（ ）
- 离化后的原子在强电场的加速作用下，注射进入靶材料的表层，以改变这种材料表层的物理或化学性质的工艺过程叫____。
- 离子注入设备的离子源有等离子体型离子源和____离子源。
A:临界剂量
B:最低掺杂剂量
C:掺杂剂量
D:损伤剂量
答案:临界剂量
A:60~90分钟
B:30~60分钟
C:10~20分钟
D:100~120分钟
A:剂量
B:温度
C:能量
D:质量
A:实现电激活
B:提高掺杂均匀性
C:修复损伤
D:加大损伤
A:对 B:错
A:对 B:错
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